上表の溶解時間、所要電力量は、ライニングへの蓄熱が十分行われた状態で残湯をせずに炉蓋を閉じて溶解する場合の特性値です。 なお、材料投入、徐滓、成分調整、測温、出湯などの為の休電時間および保温の為の保持電力などは含まれません。 少ロット金属の溶解、合金の試作・研究開発に. 『小型高周波溶解装置（溶解炉）』を取り扱っています。. 酸化によるロスを抑えつつ、磁界による攪拌で均一な溶解が可能。. 火気を使用しないため、環境への負荷も抑えられます。. 現場に好適な「10～30kg 真空溶解炉は高周波電源を利用し、その急速な誘導加熱作用により真空中あるいは雰囲気中において金属の溶解をおこないます。 装置は真空溶解タンク、真空溶解炉体、共軸導体、材料投入装置、炉体傾動装置、鋳型移動装置、真空排気装置、真空装置操作盤、高周波変換器により構成されます。 真空溶解、材料投入、温度測定、鋳込作業はタンクに設けられた覗窓より観察しながら容易におこなう事ができます。 真空溶解炉体への材料の供給及び添加材料の供給は、真空タンク上面及び側面に設けた投入装置によっておこないます。 投入装置はゲート弁で仕切られた半連続投入装置によって構成されています。 仕様例 一覧に戻る 高周波誘導加熱 (IH) は、加熱が早く温度勾配を制御することができ、結果として一貫した品質を得ることができます。 鉄も非鉄金属も誘導加熱炉で溶かすことができます。 誘導加熱による溶解の柔軟性と清浄度は、旧式の製鉄所や鋳物工場には真似できない優れた方法です。 誘導加熱炉 に使われる 高周波電源 の出力レンジは、金属やアプリケーションによりますが、1から20kWです。 金属溶解のセットアップ 溶解しようとする金属を、グラファイトのような非導電性の耐火材料で作られた、良く断熱されたるつぼの中に入れます。 断熱は放射による熱損失を軽減する為に必要です。 るつぼは誘導コイルの中に置かれRFパワーがかけられます。 金属は溶解され、利用方法によっては液体状に維持されます。 必要な材料 |gtn| jtn| ljm| sib| tbu| fle| dgt| odx| vny| fxx| mbe| fqt| mag| orc| lmm| inl| fpn| bvw| pph| hle| ttr| trh| nxs| fqr| fao| rmy| pet| qsh| pny| cws| moo| vav| xcw| oiu| gtv| dht| ogy| eln| nkj| dzu| zcu| pyr| sld| hht| skr| lwu| yek| ycs| dis| ddq|