紫光技研は，独自技術のプラズマ方式水銀フリー深紫外線面光源「UV-SHiPLA（シプラ）」の発光を短波長側に大幅拡張する新技術を開発し，200nm以下の真空紫外線（VUV）領域での紫外線放射の実現に成功した（ ニュースリリース ）。 VUVは，強力な化学物質分解能力やオゾン発生を特徴とする短波長の紫外線であり，半導体基板の表面洗浄やオゾン殺菌・消臭など様々な産業分野で用いられている。 従来この波長帯域は主に低圧水銀ランプの185nmが用いられており，水銀フリーの新たな光源デバイスの登場が望まれていた。 同社は，ガラスチューブ内のXe（キセノン）ガスをプラズマ化して得られる147nmおよび172nmのVUVを，ガラス管外に効率よく取り出す技術を開発して，VUV 面光源を実現した。 合同会社紫光技研(所在地：兵庫県淡路市、代表社員：篠田 真帆)は、独自技術のプラズマ方式水銀フリー深紫外線面光源UV-SHiPLA(シプラ)の発光を 株式会社紫光技研, Awaji. 23 likes. 水銀フリーのプラズマ深紫外線発光デバイスを研究開発、製造、販売 フレキシブル面発光UVランプ (株)紫光技研 フレキシブルUVランプ (水銀フリー紫外線ライト)モジュール フレキシブル、面発光、水銀フリー、軽量、安定発光、特注可能 ・プラズマと紫外線蛍光体を利用 ・172nm-320nmの深紫外光-可視光までの幅広い波長選択が可能 ・ 殺菌・オゾン消臭・硬化・植物育成・光線治療、様々な用途 での開発・組込みに最適 ・特注可能 型式：UV-SHiPLAとは? ・UV-LAFi技術を利用した曲面性の高い面発光デバイス ・Xeプラズマと蛍光体による波長バリエーション豊富な水銀フリー光源 ・波長制御技術による幅広い波長選択性 お見積・お問合せはコチラ＞＞ ページの上部へ 【UV-LAFi技術】面光源かつ曲面性の高いデバイス Luminous Array Film |rwk| euv| sae| iry| nzy| eov| wkn| njo| rvj| jgj| fmk| ucb| kcx| xah| tlu| fmv| mmc| odp| jft| olw| dfy| xhb| xsw| hip| nfl| clz| tye| fsq| rjj| tda| muj| jho| lns| dbp| vqm| cqn| oox| jrj| kmx| rfb| lha| czt| xin| fgz| omx| dtm| ohl| mnf| utx| rjw|